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藥品研發(fā)制冷加熱控溫系統(tǒng) 密閉循環(huán)恒溫器

簡要描述:【無錫冠亞】藥品研發(fā)制冷加熱控溫系統(tǒng) 密閉循環(huán)恒溫器,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

  • 產品型號:SUNDI-235
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-03-13
  • 訪  問  量:336
詳情介紹
品牌冠亞制冷價格區(qū)間10萬-20萬
產地類別國產應用領域化工,生物產業(yè),石油,制藥,綜合


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/





  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  

  小規(guī)模反應罐純化制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)廣泛應用于實驗室、科研機構以及工業(yè)生產中的化學反應、物質純化和工藝過程控制等領域。為了確保系統(tǒng)的正常運行和延長使用壽命,其放置環(huán)境的選擇也是重要的。

  一、制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)的放置環(huán)境要求

  1、溫度與濕度

  小規(guī)模反應罐純化制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)應放置在溫度適宜、濕度較低的環(huán)境中。過高的溫度可能導致系統(tǒng)內部元件老化加速,降低性能;而濕度過高則可能導致設備內部結露,引發(fā)短路和腐蝕等問題。

  2、通風與防塵

  為確保系統(tǒng)散熱良好,避免灰塵積累影響性能,制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)放置地點應具備良好的通風條件。同時,可在設備周圍設置防塵罩或安裝空氣凈化設備,以降低灰塵對系統(tǒng)的影響。

  3、震動與噪聲

  系統(tǒng)應避免放置在震動較大的環(huán)境中,以防內部元件松動或損壞。此外,制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)運行過程中產生的噪聲可能會對周圍人員造成干擾,因此應將設備放置在遠離噪聲源的位置。

  4、電源與接地

  為確保系統(tǒng)的穩(wěn)定運行,應提供穩(wěn)定的電源供應,并確保設備接地良好。制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)接地不僅可以防止電氣故障導致的安全事故,還能有效降低電磁干擾對系統(tǒng)性能的影響。

  5、空間與布局

  制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)放置地點應留有足夠的空間,以便日后維護和升級。同時,設備的布局應合理,方便操作人員進行操作和維護。

因此,在選擇制冷加熱循環(huán)系統(tǒng)放置地點時,應充分考慮各種因素,確保設備能夠在良好的環(huán)境中穩(wěn)定運行。




藥品研發(fā)制冷加熱控溫系統(tǒng) 密閉循環(huán)恒溫器

藥品研發(fā)制冷加熱控溫系統(tǒng) 密閉循環(huán)恒溫器


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