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原料藥生產及過程制冷加熱控制系統 TCU

簡要描述:【無錫冠亞】原料藥生產及過程制冷加熱控制系統 TCU,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

  • 產品型號:SUNDI-135
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-01-11
  • 訪  問  量:386
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間10萬-20萬
產地類別國產應用領域化工,生物產業(yè),石油,制藥,綜合


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制


型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/





cas原料藥生產及過程制冷加熱控制系統 TCU

原料藥生產及過程制冷加熱控制系統 TCU



  反應釜高低溫循環(huán)控溫系統主要通過加熱和冷卻反應釜內的物質,以達到所需的反應溫度。反應釜高低溫循環(huán)控溫系統通常由制冷劑、加熱元件、溫度控制系統以及相關的管道和閥門組成。

  二、反應釜高低溫循環(huán)控溫系統的作用

  1、溫度控制:反應釜高低溫循環(huán)控溫系統可以準確控制反應釜內的溫度,這是確保化學反應能夠順利進行的關鍵因素。對于一些特定的化學反應,如放熱反應,需要準確控制起始溫度和升溫速率,以避免反應失控或生成副產品。

  2、反應速度控制:反應釜的制冷加熱系統通過調節(jié)制冷加熱系統的溫度,可以控制化學反應的速度。在低溫下,化學反應速度會減慢;在高溫下,化學反應速度會加快。因此,反應釜的制冷加熱系統通過準確控制溫度,可以實現對反應速度的準確控制。

  3、提高產品質量:在化學反應過程中,如果能夠準確控制反應溫度和反應速度,就可以減少副產品的生成,提高產品的質量和純度。這對于生產高純度化學品和藥物等產品重要。

  4、靠譜生產:反應釜的制冷加熱系統準確控制化學反應的溫度和速度可以避免反應失控,從而降低事故發(fā)生的可能性。

5、提高設備效率:通過準確控制反應溫度和速度,可以減少能源的浪費和提高設備的效率。例如,通過準確控制加熱和冷卻過程,可以減少能量的傳遞損失和設備的磨損,從而提高設備的運行效率。



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