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產(chǎn)品中心

反應釜加熱冷卻裝置主要用途

簡要描述:制冷加熱循環(huán)一體機,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。反應釜加熱冷卻裝置主要用途

  • 產(chǎn)品型號:SUNDI-575
  • 廠商性質:生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-01-06
  • 訪  問  量:506
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間5萬-10萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天

<strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong>

<strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong>沈陽谷輪制冷機一體機-tcu制冷加熱系統(tǒng)</strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

<strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong>

反應釜加熱冷卻裝置主要用途

 

  反應釜加熱冷卻裝置適合用于高純度金屬、稀有物質提純、試驗室環(huán)境模擬、磁控濺射、真空鍍膜等行業(yè),大型低溫泵機組可以為噸位級珍貴實驗室儀器提供降溫環(huán)境。反應釜加熱冷卻裝置是采取機械形式來制冷的低溫液體循環(huán)設備。具有提供低溫液體、低溫水浴的作用。

  結合旋轉蒸發(fā)器、真空冷凍干燥箱、循環(huán)水式多用真空泵、磁力攪拌器等儀器,進行多功能低溫下的化學反應作業(yè)及藥物儲存。反應釜加熱冷卻裝置可與多種儀器配套使用,制冷量大,制冷速度快,能耗低,大大地提高了工作效率;反應釜加熱冷卻裝置的流量可調亦可定制,根據(jù)用戶要求在低溫與制冷量,低溫與容器量之間合理搭配。可以滿足不同用戶的實際需要。

  反應釜加熱冷卻裝置主要用途

  1、能對雙層玻璃反應釜、不銹鋼反應釜、旋轉蒸發(fā)儀等儀器設備提供超低溫低溫恒溫循環(huán)液。

  2、對玻璃容器和玻璃反應裝置提供恒溫實驗場所。

  3、石油化工、生物制藥、食品等行業(yè)應用提供恒溫實驗場源。

  4、能對電子顯微鏡的電源、光源部分進行低溫冷卻和溫度控制。

  5、能對工業(yè)用機械裝置的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制。

  選購反應釜加熱冷卻裝置要注意的幾點:

  1、根據(jù)所需冷卻液體積來選擇循環(huán)泵型號,當然,容量越大價、溫度越低,價格也就越高。

  2、根據(jù)實驗需要溫度不同,選用相應溫控范圍的低溫泵。溫度越低,泵的價格越高,無錫冠亞反應釜加熱冷卻裝置低溫可達-120℃。

3、實驗溶液否有腐蝕性,如果是強酸/堿類型溶液則需要選購耐腐蝕的反應釜加熱冷卻裝置。

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