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閉式循環(huán)加熱系統(tǒng)主要用途有哪些

簡要描述:閉式循環(huán)加熱系統(tǒng)主要用途有哪些,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。

  • 產(chǎn)品型號:SUNDI-575
  • 廠商性質:生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-01-06
  • 訪  問  量:478
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞價格區(qū)間5萬-10萬
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領域醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天

<strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機 

解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置, 

用以滿足間歇反應器溫度控制 

或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。 

<strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong>沈陽谷輪制冷機一體機-tcu制冷加熱系統(tǒng)</strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong> 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

<strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong><strong><strong><strong>實驗室高低溫循環(huán)裝置-反應釜制冷加熱機</strong></strong></strong>

閉式循環(huán)加熱系統(tǒng)主要用途有哪些

閉式循環(huán)加熱系統(tǒng)主要用途有哪些

 

  今天閉式循環(huán)加熱系統(tǒng)廠家冠亞制冷設備的小編今天為大家介紹一下閉式循環(huán)加熱系統(tǒng)的主要用途有哪些?

  閉式循環(huán)加熱系統(tǒng)設備內的所有電器控制元件均放置在隔爆型的電器箱內,可定制隔離防爆款。

  閉式循環(huán)加熱系統(tǒng)主要用途

  對旋轉蒸發(fā)儀、光化學反應儀光源部分進行高低溫控制;

  對雙層玻璃反應釜夾層進行低溫冷卻和溫度控制;

  對分光光度計的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制;

  對超聲波破碎的試料進行低溫冷卻和溫度控制;

  對激光加工機的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制;

  對蝕刻裝置的電機部分進行低溫冷卻和溫度控制;

  對電子顯微鏡的電源、光源部分進行低溫冷卻和溫度控制;

  對工業(yè)用機械裝置的發(fā)熱部分進行低溫冷卻和溫度控制;

  閉式冷熱循環(huán)機-120℃~350℃,適合多數(shù)企業(yè)恒溫控制需求,彩色TFT顯示屏可顯示所有相關的操作參數(shù)。可一鍵實現(xiàn)內外部溫度控制切換。閉式冷熱循環(huán)機散熱面積大可實現(xiàn)熱傳導效果并對介質進行平穩(wěn)加熱。按鍵和旋轉按鈕可進行直觀的菜單導航。閉式冷熱循環(huán)機配備排水閥以便排空,可連接軟管排放浴液,如此則不需直接接觸高溫介質。得益于無線控制器,該設備可遠程控制,較長控制距離達10米。

 

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