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簡(jiǎn)要描述：TCU-無錫冠亞反應(yīng)釜控制ZLF-50NSH，用戶可以在一個(gè)較寬的溫度范圍得到一個(gè)密閉的、可重復(fù)的溫度控制，可實(shí)現(xiàn)-120度～300度控溫，避免了傳統(tǒng)設(shè)備設(shè)施的更換及夾套維護(hù)的需求;較小的流體體積也保證了控制回路快速的反應(yīng)并且熱反應(yīng)延遲很小。
產(chǎn)品型號(hào)：ZLF-50N廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2024-01-03訪 問 量：696| 品牌 | LNEYA/無錫冠亞 | 價(jià)格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航天 |
TCU-無錫冠亞反應(yīng)釜控制ZLF-50NSH
TCU-無錫冠亞反應(yīng)釜控制ZLF-50NSH
反應(yīng)釜作為制藥生產(chǎn)中實(shí)現(xiàn)化學(xué)反應(yīng)的主要設(shè)備,在實(shí)際的化學(xué)合成反應(yīng)過程中,溫度是工業(yè)生產(chǎn)中常見的工藝參數(shù)之一,任何物理變化和化學(xué)反應(yīng)過程都與溫度密切相關(guān)。反應(yīng)釜的溫度控制-反應(yīng)釜控制ZLF-50NSH占有著較為重要的地位。從傳統(tǒng)的手動(dòng)控溫逐漸轉(zhuǎn)變?yōu)樽詣?dòng)控溫,隨著制藥行業(yè)水平的不斷提高,對(duì)生產(chǎn)所需的各種設(shè)備、儀器儀表的要求也在不斷的提高。自動(dòng)溫度控制模塊(以下稱溫控單元)是指通過外界提供的冷源和熱源對(duì)各種設(shè)備如反應(yīng)釜、干燥箱等實(shí)現(xiàn)溫度的自動(dòng)控制。
在實(shí)際化工生產(chǎn)過程中,反應(yīng)釜的溫度會(huì)影響化工產(chǎn)品的生產(chǎn)質(zhì)量,在很大程度上生產(chǎn),也在一定程度上影響安全的化學(xué)過程。因此如何反應(yīng)的化學(xué)反應(yīng)器溫度控制準(zhǔn)確,,就變得越來越重要。
反應(yīng)釜控制ZLF-50NSH針對(duì)在化學(xué)反應(yīng)釜內(nèi)進(jìn)行溫度控制的不確定滯后導(dǎo)致的控制困難,采用一種模糊PID控制算法。算法利用PLC的系統(tǒng)功能進(jìn)行實(shí)現(xiàn)。系統(tǒng)充分利用了PLC控制系統(tǒng)靈活、可靠、抗干擾能力強(qiáng)等特點(diǎn)。現(xiàn)場(chǎng)運(yùn)用結(jié)果表明系統(tǒng)較好消除了時(shí)變時(shí)滯對(duì)控制的影響,具有較好的魯棒性。
