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  • 加熱循環裝置控溫-25℃ ~ 200℃拖二系統

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。加熱循環裝置控溫-25℃ ~ 200℃拖二系統

    更新時間:2023-12-21

    廠商性質:生產廠家

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  • 加熱制冷浴槽SUNDI-430W-45℃~180℃

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。加熱制冷浴槽SUNDI-430W-45℃~180℃

    更新時間:2023-12-21

    廠商性質:生產廠家

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  • 小型高低溫循環一體機

    寬工作溫度范圍,同時具備加熱制冷功能,Z大溫度范圍:-30~180度。寬工作溫度范圍,同時具備加熱制冷功能,Z大溫度范圍:-30~180度。 小型高低溫循環一體機

    更新時間:2023-12-21

    廠商性質:生產廠家

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  • 制冷加熱控溫系統反應器配套設備

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。制冷加熱控溫系統反應器配套設備-100℃ ~ 100℃

    更新時間:2023-12-21

    廠商性質:生產廠家

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  • 高低溫循環器30L-50℃~250℃

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。高低溫循環器30L-50℃~250℃

    更新時間:2023-12-21

    廠商性質:生產廠家

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  • 密閉高低溫循環裝置(實驗型)

    應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。密閉高低溫循環裝置(實驗型)-SUNDI-420W

    更新時間:2023-12-21

    廠商性質:生產廠家

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